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美國 OAI 光刻機 Model 200 型紫外光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 14 美國OAI光刻機Model 200型桌面掩模對準器系統手工操作對比
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OAI Model 6000 型紫外光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 17 OAI掩膜光刻機Model6000型的特點和優點?高吞吐量（180wph，掩模模式)和生產和研發的運行成本?ABO光學與光均質器，以實現所需各種電阻的分辨率和曝光?用于大深度Foucs的特殊光學?靈活處理基板從2“平方到12”平方?可手動或自動上料配置對比
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OAI UV Led 光源 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 17 OAI UV Led光源-對準和均勻，適用于高要求的光刻應用對比
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Model 6020S OAI 紫外光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 58 OAI的面板級掩模光刻機Model6020S用于FOPLP型號6020S-半自動化或自動化,實現500mmx500mm晶圓尺寸的FO-PLP加工.OAI’sPanelLevelMaskAlignerforFOPLPModel6020S-SemiorAutomatedEnablingFO-PLPProcessingat500mmx500mmWaferSizesOAI掩模對準器對比
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海德堡μMLA桌面無掩模光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 21 海德堡μMLA桌面無掩模光刻機 桌面型光刻機μMLA 技術參數 直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能（光柵掃描和矢量曝光模式） 小結構尺寸 [μm]0對比
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OAI Model 800E 型紫外光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 50 OAIModel800E型掩模對準系統對比
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德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 29 德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機 MLA150 德國高精密激光直寫繪圖機非接觸式曝光可支持數位光刻與灰度光刻 MLA150專為便于操作而設計，涵蓋過去30年中開發的激光直寫設備的所有技術知識對比
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德國海德堡 激光直寫光刻機DWL 66+ 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 20 德國海德堡激光直寫光刻機DWL66+科研用激光直寫系統具有多種直寫模塊，實現不同精度直寫需求能于結構上進行灰度曝光 DWL66+激光光刻系統是具經濟效益的高分辨率圖像產生器，適用于小批量掩模板制作和直寫需求對比
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德國Nanoscrib 雙光子微納3D打印機Quantum X 參考價 ￥面議
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品牌 型號 Quantum X 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 53 德國Nanoscrib雙光子微納3D打印機QuantumX重新定義精密加工對比
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德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機MLA100 參考價 ￥面議
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品牌 型號 MLA100? 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 20 德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機MLA100適合用科研領域的中小型實驗室與大學研究所，支持套刻直寫功能MLA100聚焦于合理價格下依然維持高性能，是許多研發應用的理想光刻解決方案對比
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URE-2000 系列紫外單面光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 URE-2000 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 11 URE-2000系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-2000/25,URE-2000/17URE-2000/600紫外光刻機1、設備主要技術指標：(1)光束口徑：650mm×650mm(2)有效曝光面積：600mm×600mm(3)分辨力：≤3μm(4)對準精度：±1對比
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德國Heidelberg激光直寫光刻機μPG 101，UMLA 參考價 ￥面議
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品牌 型號 μPG 101，UMLA 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 17 德國海德堡Heidelberg激光直寫光刻機μPG101，升級新型號：UMLA適合用于科研領域臺式激光直寫機操作簡單，可支持灰度光刻μPG101是一款經濟實惠且易于操作的圖形發生器，適用于直寫和少批量的掩模板制作對比
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URE-2000S 系列雙面光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 URE-2000S 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 16 一、URE-2000S/A8型雙面光刻機1.主要技術參數曝光面積：8英寸曝光波長：365nm：15mW/cm405nm：15-30mW/cm2分辨力：1mm對準精度：±2mm（雙面,片厚0.8mm）±0.8mm（單面）掩模尺寸：4英寸、5英寸對比
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德國Nano analytik 電子束光刻機 針尖光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 ParcanNano掃描探針光刻刻系統/單針尖光系統 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 27 ParcanNano電子束光刻機 針尖光刻機SPL(德國Nanoanalytik)簡介：公司以的針尖技術為核心競爭力，技術源自于德國伊爾默瑙工業大學，致力于主動式針尖技術在微納米結構制備和表征方面的研發，及其相關設備的產業化對比
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Heidelberg μMLA桌面無掩模光刻機 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 25 μMLA桌面無掩模光刻機 桌面型光刻機μMLA 技術參數 直寫模式 I*直寫模式 II*寫入性能（光柵掃描和矢量曝光模式） 小結構尺寸 [μm]0對比
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德國MBE-Komponenten 分子束外延系統? OCTOPLUS 500 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 34 德國MBE-Komponenten分子束外延系統OCTOPLUS500 OCTOPLUS500系統是為了在6英寸襯底上生長高質量的III/V族或者II-VI族異質結構材料而研發的對比
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NIE-4000 離子束刻蝕機，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-09 瀏覽次數 16 NIE-4000離子束刻蝕系統 NIR-4000IBE/RIE雙刻蝕系統通過加速的Ar離子進行物理刻蝕或銑削對比
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美Sonix AutoWafer Pro 晶圓檢測設備 參考價 ￥面議
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品牌 型號 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2023-05-08 瀏覽次數 17 美Sonix AutoWafer Pro 晶圓檢測設備 AutoWafer Pro是專為全自動晶圓檢測設計的機型，主要應用在Bondwafer、MEMS內部空間、離層檢測，TSV量測方面對比
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密封圈外觀檢測設備 在線視覺檢測設備 ccd尺寸測量設備 參考價 ￥5000
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品牌 型號 TM300 類型 光學加工機械 廠商性質 其他 更新時間 2022-10-02 瀏覽次數 11 1對比
